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集成电路EDI超纯水设备清洗污垢的方法详细介绍

作者:北京中天恒远 发布于:2018-07-20 13:36浏览量:

  集成电路EDI超纯水设备清洗污垢的方法,中天恒远编辑李德馨认真总结整理了相关的知识,下面为大家详细讲解一下,希望对您有所启发。

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集成电路EDI超纯水设备清洗污垢的方法

  文章主体正文:

  集成电路EDI超纯水设备清洗污垢的方法,小编听取根据技术人员的介绍,认真整理总结了一下,为您详细介绍

  一,倒换电极

  可以有效地减轻膜及阴极上的水垢,一般水垢沉积在浓水室阴极表面上,倒换电极后,浓水室、淡水室相应倒换造成水垢的不稳定状态,因而可以减轻结垢。

  二,酸洗

  是消除沉淀的有效方法,水垢积到一定程度,就需要进行酸洗,酸洗一般采用循环酸洗,浓水,淡水和极水室一次酸洗的方法。

  三,碱洗

  酸洗不能取出有机沉淀物,对于这类污染层可以用碱性食盐水清洗,使有机物消除,碱洗可以利用酸洗系统进行,一般不另设装置。

  四,定期拆洗

  采用上述方法不能回复除盐率时,应把EDI膜堆拆开清洗,重新组装一般1-1.5年电渗析需要拆洗一次。

  集成电路芯片EDI电除盐系统采用的是比较流行的EDI膜块制水工艺,比较终出水电阻率能够达到18兆欧以上,与此同时,集成电路EDI电除盐系统的出水中还不会含有任何的细菌以及微生物,所以使用该种电路芯片EDI电除盐系统作为供水系统的企业的产品质量一定是符合标准的。

  集成电路EDI超纯水设备清洗污垢的方法就介绍到这里了,如果想了解更多相关的知识,请关注我们的官网。

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