详解半导体行业超纯水设备制作工艺(图文)

　　北京中天恒远的小编龙二给您详细的介绍——半导体行业超纯水设备制作工艺，帮助广大用户朋友更好的了解。

　　电子、半导体、液晶显示、光伏工业生产在制作过程中，往往需要使用极其纯净的超纯水系统。如果纯水水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话，会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。在光伏行业电子管生产中，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，如其配制纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色。含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。

　　目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

　　反渗透设备EDI超纯水设备作为制取超纯水的设备，作为反渗透设备后的二次除盐设备，可以制取出高达10-18.2MΩ.CM。因此广泛用于微电子工业，半导体工业，发电工业，制药行业和实验室。也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、发电厂的锅炉的补给水，以及其它应用高纯水。

　　半导体行业超纯水系统应用领域

　　1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水。

　　2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水。

　　3、实验室和中试车间用超纯水。

　　4、汽车、家电表面抛光处理。

　　5、光电子产品。

　　6、其他高科技精微产品。

　　半导体行业超纯水系统制作工艺

　　为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、EDI超纯水系统等。

　　1、介质过滤器主要作用是去除源水中的悬浮物质及机械杂质设备由优质不锈钢材料制作而成。体内装有布水帽、精制石英砂等，亦可装其它填料。合理的石英砂装填比例及良好的布水系统，使系统的产水水质更加稳定。另外设备还设有气体冲刷功能，能比较大限度地清除介质上及床层中的污垢，提高出水水质和延长工作周期。

　　2、活性碳过滤器具有除臭、去色、除油、吸附有机物杂质等作用，能比较大程度的去除水中的游离余氯，保证反渗透膜的进水水质，设备由优质不锈钢材料制成。

　　3、RO主机系统引进上先进的反渗透技术，利用压力差原理，能有效地去除水中的盐类，脱盐率可达到99%左右。

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